RF Power Delivery in Industrial Capacitively Coupled Plasma Systems: Analysis of Transmission-Line Effects and Fixed Impedance Matching Networks

Sähkötekniikan DI-ohjelma - Master's Programme in Electrical Engineering
Informaatioteknologian ja viestinnän tiedekunta - Faculty of Information Technology and Communication Sciences

Hyväksymispäivämäärä

2026-06-08

Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi:tuni-202606046955