EUV-litografia tulevaisuuden tekniikkana

Abstract

Nykyään tietokoneiden ja muiden älylaitteiden yleistyessä niiden valmistustekniikat ovat tärkeässä roolissa. Tässä työssä tarkastellaan merkittävimpiä piirien valmistustekniikoita, eli EUV-litografiaa ja DUV-litografiaa. EUV-litografia tarkoittaa extreme ultraviolet –litografiaa ja DUV-litografia tarkoittaa deep ultraviolet –litografiaa. Työn tavoitteena on käydä läpi näiden perusteita sekä verrata niitä keskenään. Tärkeänä osa-alueena on myös EUV-litografian kehitys ja sen tulevaisuuden asemat. Työ on toteutettu kirjallisuuskatsauksena ja se jakautuu neljään osaan: optisen litografian perusteiden läpikäymiseen, EUV-litografian perusteiden selittämiseen, EUV:n ja DUV:n vertailuun ja EUV:n tulevaisuuden näkymien pohtimiseen. Vertailussa käydään läpi litografiajärjestelmien laitteistoa sekä valmistajien taloudellisia puolia. Tulevaisuuden näkymissä pohditaan EUV:n valmistajia sekä järjestelmän muutoksia. Tutkielman vertailujen perusteella EUV-litografia on huomattavasti kalliimpi vaihtoehto, mutta se toisaalta mahdollistaa erittäin pienen resoluution piirien valmistuksessa. Eroavaisuuksia EUV:n ja DUV:n välillä on laitteiston monimutkaisuudessa sekä kustannuksien määrässä. Tärkeimpänä havaintona on se, että EUV-litografiaa käytetään vain piirin äärimmäistä tarkkuutta vaativiin osiin ja DUV-litografiaa voidaan käyttää piirin muihin osiin.