Epitaxy of Advanced GaSb-based Semiconductor Light Sources
Hilska, Joonas (2024)
Hilska, Joonas
Tampere University
2024
Tekniikan ja luonnontieteiden tohtoriohjelma - Doctoral Programme in Engineering and Natural Sciences
Tekniikan ja luonnontieteiden tiedekunta - Faculty of Engineering and Natural Sciences
This publication is copyrighted. You may download, display and print it for Your own personal use. Commercial use is prohibited.
Väitöspäivä
2024-12-03
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:ISBN:978-952-03-3703-2
https://urn.fi/URN:ISBN:978-952-03-3703-2
Tiivistelmä
Uusien puolijohdemateriaalien kehittäminen mahdollistaa optoelektroniikan komponenttien suorituskyvyn parantamisen sekä uusien toiminnallisuuksien toteuttamisen. Tässä työssä käsitellään kahden uudenlaisen materiaalijärjestelmän kehitystä erilaisiin infrapunavaloa tuottaviin sovelluksiin. Työn ensimmäisessä osassa tutkitaan GaSbBi-yhdisteiden valmistusta molekyylisuihkuepitaksia-menetelmällä sekä näiden yhdisteiden eri fysikaalisia ominaisuuksia. Työn toisessa osassa kehitetään GaSb-kvanttipisteiden valmistusprosessia pohjautuen niin kutsuttuun paikalliseen pisaraetsaus-menetelmään. Menetelmän avulla työssä valmistetaan GaSb-kvanttipisteitä sekä tutkitaan niiden ominaisuuksia. Molempien materiaalijärjestelmien käytännön soveltuvuutta tutkitaan valmistamalla ja karakterisoimalla niitä hyödyntäviä puolijohdekomponentteja. Työssä valmistetaan 2,1 µm aallonpituudella toimiva reunasäteilevä laserdiodi sekä saturoituva puolijohdepeili, jotka hyödyntävät GaSbBi-kvanttikaivorakenteita. GaSb-kvanttipisteiden soveltuvuus epäklassisena valonlähteenä osoitetaan niiden kyvyllä säteillä yksittäinen fotoni kerrallaan tärkeällä 1,47 µm:n tietoliikenne aallonpituusalueella.
Työn tärkeimmät havainnot ovat seuraavat. Korkeiden Bi-seostuksien ja hyvän rakenteellisen laadun omaavien GaSbBi-yhdisteiden valmistus on rajoitettu pieneen kasvuparametri-ikkunaan. Vain noin 15%Bi:tä saadaan seostettua GaSb:iin ilman merkittävää materiaalin laadun heikkenemistä. Tutkitut materiaaliominaisuudet sekä sovelluksien suorituskyvyt viittaavat siihen että optimiolosuhteissa valmistetun materiaalin laatu on edelleen heikko. GaSb-kvanttipisteiden osalta työssä osoitetaan paikallisen pisaraetsausprosessin olevan GaSb-yhdisteille hyvin hallittava ja laajasti säädettävä. Valmistettujen kvanttipisteiden kokojakaumalle osoitetaan huipputason yhdenmukaisuus. Mitatut yksittäisen kvanttipisteen säteilyominaisuudet ovat erittäin lupaavia aallonpituuden kapeuden, yksittäisen fotoniemission sekä korkean symmetrian perusteella. Kvanttipisteiden tarkassa geometriassa sekä kompositiossa on kuitenkin edelleen varaa kehitykseen niin valmistusprosessin optimoinnin kuin kvanttipisteiden integraation kannalta.
Työn tärkeimmät havainnot ovat seuraavat. Korkeiden Bi-seostuksien ja hyvän rakenteellisen laadun omaavien GaSbBi-yhdisteiden valmistus on rajoitettu pieneen kasvuparametri-ikkunaan. Vain noin 15%Bi:tä saadaan seostettua GaSb:iin ilman merkittävää materiaalin laadun heikkenemistä. Tutkitut materiaaliominaisuudet sekä sovelluksien suorituskyvyt viittaavat siihen että optimiolosuhteissa valmistetun materiaalin laatu on edelleen heikko. GaSb-kvanttipisteiden osalta työssä osoitetaan paikallisen pisaraetsausprosessin olevan GaSb-yhdisteille hyvin hallittava ja laajasti säädettävä. Valmistettujen kvanttipisteiden kokojakaumalle osoitetaan huipputason yhdenmukaisuus. Mitatut yksittäisen kvanttipisteen säteilyominaisuudet ovat erittäin lupaavia aallonpituuden kapeuden, yksittäisen fotoniemission sekä korkean symmetrian perusteella. Kvanttipisteiden tarkassa geometriassa sekä kompositiossa on kuitenkin edelleen varaa kehitykseen niin valmistusprosessin optimoinnin kuin kvanttipisteiden integraation kannalta.
Kokoelmat
- Väitöskirjat [4929]