Hyppää sisältöön
    • Suomeksi
    • In English
Trepo
  • Suomeksi
  • In English
  • Kirjaudu
Näytä viite 
  •   Etusivu
  • Trepo
  • TUNICRIS-julkaisut
  • Näytä viite
  •   Etusivu
  • Trepo
  • TUNICRIS-julkaisut
  • Näytä viite
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Aluminium oxide formation via atomic layer deposition using a polymer brush mediated selective infiltration approach

Snelgrove, M.; McFeely, C.; Mani-Gonzalez, P.G.; Lahtonen, K.; Lundy, R.; Hughes, G.; Valden, M.; McGlynn, E.; Yadav, P.; Saari, J.; Morris, M.A.; O'Connor, R. (2020)

 
Avaa tiedosto
Aluminium_oxide_formation_via_atomic_layer_deposition_using_a_polymer_brush_mediated_selective_infiltration_approach.pdf (777.9Kt)
Lataukset: 



Snelgrove, M.
McFeely, C.
Mani-Gonzalez, P.G.
Lahtonen, K.
Lundy, R.
Hughes, G.
Valden, M.
McGlynn, E.
Yadav, P.
Saari, J.
Morris, M.A.
O'Connor, R.
2020


145987
doi:10.1016/j.apsusc.2020.145987
Näytä kaikki kuvailutiedot
Julkaisun pysyvä osoite on
https://urn.fi/URN:NBN:fi:tuni-202010307731

Kuvaus

Peer reviewed
Tiivistelmä
Area selective deposition (ASD) is an emerging method for the patterning of electronic devices as it can significantly reduce processing steps in the industry. A potential ASD methodology uses infiltration of metal precursors into patterned polymer materials. The work presented within demonstrates this potential by examining hydroxy terminated poly(2-vinylpyridine) (P2VP-OH) as the ‘receiving’ polymer and trimethylaluminium (TMA) and H2O as the material precursors in a conventional atomic layer deposition (ALD) process. Fundamental understanding of the surface process was achieved using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX) mapping via transmission electron microscopy (TEM). The resulting analysis confirms aluminium inclusion within the polymer film. Spectroscopic and microscopic characterisation show metal infiltration throughout the polymer to the underlying silicon dioxide interface. Exposing the infiltrated film to an oxygen plasma results in the removal of the organic component and resultant fabrication of a sub 5 nm aluminium oxide layer.
Kokoelmat
  • TUNICRIS-julkaisut [9071]
Kalevantie 5
PL 617
33014 Tampereen yliopisto
oa[@]tuni.fi | Yhteydenotto | Tietosuoja | Saavutettavuusseloste
 

 

Selaa kokoelmaa

TekijätNimekkeetTiedekunta (2019 -)Tiedekunta (- 2018)Tutkinto-ohjelmat ja opintosuunnatAvainsanatJulkaisuajatKokoelmat

Omat tiedot

Kirjaudu sisäänRekisteröidy
Kalevantie 5
PL 617
33014 Tampereen yliopisto
oa[@]tuni.fi | Yhteydenotto | Tietosuoja | Saavutettavuusseloste